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QLED의 무장벽 전하주입 현상의 원리 규명

영자점 표면 결함이 전하 주입 장벽 해소 근본원인

등록일 2021년10월21일 13시04분 URL복사 기사스크랩 프린트하기 이메일문의 쪽지신고하기
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[한국기술뉴스] 한국연구재단은 성균관대학교 임재훈 교수, 한국과학기술원 이도창 교수, 제 1저자 이현준 공동 연구팀이 QLED의 무장벽 전하주입 현상의 원리를 규명했다고 밝혔다.

 

각 전극을 통해 주입된 전자와 정공이 가운데 양자점에서 만나 발광하는 QLED에서 양자점 주변 전기전도층이 전자와 정공의 흐름(주입)을 방해하는 장벽으로 작용한다고 알려져 있었다. 때문에 적색 QLED는 가시광선(적색)에 해당하는 에너지인 2V를 초과하는 구동전압이 필요하다는 것이 정설이었다.

 

하지만 연구팀은 일부 양자점에서 전하 주입 장벽의 존재에도 불구하고 2V보다 낮은 1.5V 전압으로도 빛을 내는 것을 알아냈다. 구동전압이 낮을수록 소자작동에 필요한 에너지가 줄어들기에 상용화에 유리하다.

 

나아가 이 과정에서 양자점 표면 결함이 양자점을 중심으로 배열된 서로 다른 소재간 에너지 준위 재정렬을 유도해 전하 주입 장벽을 어느 정도 상쇄할 수 있는 디딤돌로 작용함을 알아냈다.

 

 

양자점을 둘러싼 전기전도층의 전자가 양자점 표면의 결함으로 이동하여 내부 전기장을 형성함으로써 소자 내 각 층간 에너지 준위 차이를 좁혀 전하의 이동을 원활하게 한다는 것이다.

 

저전력, 고효율 양자점 전계발광소자 구현 원리를 제시한 이번 연구결과가 고해상도·장수명 디스플레이 구현을 앞당길 것으로 기대된다.

지영광 기자 이기자의 다른뉴스
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