인하대학교 고분자공학과 이진균 교수 연구팀이 고불소계 용제에 용해성을 갖는 고불소화 고분자를 포함하는 새로운 레지스트 재료를 개발하였다고 발표했습니다. 이 기술은 출원번호 1020180068663으로, 더욱 정밀하고 안정적인 반도체 미세 패턴 제조가 가능해져, 스마트폰, 컴퓨터, TV 등의 전자기기 성능 향상에 기여할 것으로 기대됩니다.

기존 반도체 제조 공정에서 사용되던 노빌렉 계열 수지와 PMMA 고분자의 한계를 극복하기 위해, 이진균 교수 연구팀은 고불소계 용제에 용해성이 뛰어난 새로운 고분자 레지스트 재료를 개발하였습니다. 이 재료는 전자선에 대한 노출 결과로부터 우수한 패턴 형성 능력을 보여주며, 고불소화 용제를 활용해 다른 물질에 대한 영향이 적고, 약한 유기 소재를 사용하는 제조 공정에서도 적용 가능한 장점을 가지고 있습니다.

본 발명으로 인해 고성능 반도체의 생산이 가능해지며, 이를 통해 반도체 기반 전자기기의 성능이 한층 향상될 전망입니다. 이진균 교수는 이 기술이 반도체 산업에 새로운 패러다임을 제시하며, 국내 기술 경쟁력을 한 단계 끌어올릴 것으로 기대한다고 밝혔습니다.